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MOCVD

よみ エムオーシーブィディー
英 Metal Organic Chemical Vapor Deposition
概要 MOCVDとは、Metal Organic Chemical Vapor Depositionの略で、化学反応により基板上に薄膜を形成するCVD(化学気相成長法)の一種である有機金属化学気相成長法のこと。原料に有機金属(ガス化が容易である)を用いるために、こう呼ばれている。
ガスの流量や、温度、圧力、基板温度などを制御することで、他の方法に比べて大面積に、効率よく、均質な薄膜結晶を作成でき、単一原子層での制御も可能である。化合物半導体や、半導体レーザー、紫外・青色・白色LEDなどの量産に使用されている。

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当社特許「パラジウム膜透過法」の技術を基にした「水素高純度精製装置」の製造・販売ヲスタートしました。その後、触媒技術や吸...

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