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フォトレジスト

よみ フォトレジスト
英 photoresist
概要 フォトレジストとは、露光・現像の原理(銀塩写真と同じ)により微細加工を行うフォトリソグラフィで使用する、光で感光する樹脂材料のこと。作成したいパターンで露光すると、光があたった部分の樹脂だけが化学的に変化し、現像液に対する溶解度の差により露光と同じパターンのレジストが形成される。露光した部分が残るネガ型と、露光されなかった部分が残るポジ型がある。
性状としては液状タイプとフィルム状のものがあり、半導体製造、フラットパネルディスプレイ製造、プリント基板製造などに使用される。

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東京応化は、半導体やフラットパネルディスプレイ（FPD）の製造に不可欠なフォトレジスト（感光性樹脂）などの化学薬品や各種...

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半導体パッケージ用フォトレジスト材料カタログ 半導体パッケージ用フォトレジスト材料カタログ
書籍：フォトレジスト材料の評価 書籍：フォトレジスト材料の評価
マイクロレジスト社　『ネガティブフォトレジスト』 マイクロレジスト社　『ネガティブフォトレジスト』
フォトレジストの研究開発用露光ツール　フォトプロセス解析用露光装置シリーズ フォトレジストの研究開発用露光ツール　フォトプロセス解析用露光装置シリーズ

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